ما تاکنون در مورد الگوها(pattern) بحث کردیم؛ و الگوهای اسکچ را از الگوهای فیچر و الگوهای وجه(face patterns) و الگوهای بدنه(body patterns) متمایز کردیم. و نگاهی به برخی عامل های دیگر که بر روی الگوسازی و بازتاب دهی تاثیر می گذارند، انداختیم. در این بخش، در مورد هریک از انواع الگوها و گزینه های آنها بحث خواهیم کرد.

وقتی که ما در اسمبلی ها در مورد الگوهای کامپوننت(component pattern) بحث می کنیم، به یاد داشته باشید که نوع الگوی های کامپوننت، محدود هستند اما می توانیم از یک الگوی فیچر در یک پارت، برای هدایت یک الگوی کامپوننت در یک اسمبلی استفاده کنیم.

استفاده از الگوی خطی(Linear Pattern)

فیچر Linear Pattern چند گزینه دارد:

گزینه ی Single Direction or Two Directions: این گزینه می تواند با انتخاب یک ضلع، صفحه، وجه مسطح، انتیتی اسکچ، محور یا دایمنشن های خطی ایجاد شود. اگر از دو جهت(direction) استفاده شده باشد، نیازی نیست این دو جهت بر یکدیگر عمود باشند.

گزینه ی Spacing: این گزینه، فاصله ی مرکز به مرکز بین نمونه های الگو را ارائه می دهد. این گزینه می تواند با دایمنشن گذاری محتاطانه یا با استفاده از گزینه ی Up To Reference تنظیم شود؛ به طوری که نرم افزار به صورت اتوماتیک وقتی که ما مرجع پایانی(end reference) و مینیمم فاصله آفست پایانی(end offset) و فاصله گذاری مورد نیاز( required spacing) را وارد می کنیم، فاصله گذاری را مشخص می کند.

رفرنس(مرجع) برای فاصله گذاری می تواند توسط فیچر centroid یا یک رفرنسِ انتخاب شده، مثل یک راس یا یک ضلع یا یک صفحه مشخص شود. این از همه مهمتر است که ارتباط بین آخرین نمونه(last instance) و up To Reference یا end reference را به دست بیاوریم.

گزینه ی Number of Instances: این عدد تعداد کل فیچرهای درون یک الگو(pattern) که شامل فیچر seed اصلی می شود را مشخص می کند. همچنین می تواند توسط یک معادله نیز مشخص شود. معادلات در فصل 10، در بخش "استفاده از معادلات" توضیح داده شده اند. این گزینه ها در تصویر 9.13 نشان داده شده اند.

(تصویر 9.13: پنل Direction 1 از Linear Pattern که از گزینه ی Up To Reference استفاده می کند)

گزینه ی Direction 2 : جهت دوم، مانند جهت اول کار می کند؛ به استثنای گزینه ی Pattern Seed Only. تصویر 9.14 تفاوت بین یک الگوی دو جهته پیش فرض و یک الگو که از گزینه ی Pattern Seed Only استفاده می کند را نشان می دهد.

 (تصویر 9.14 : استفاده از الگوی دو جهته پیش فرض و گزینه ی Pattern Seed Only)

 توضیح شماره های بالا:

1: فیچر اصلی.

2. تنها، نمونه ی اصلی الگو(seed).

گزینه ی Instances To Skip: این گزینه به ما امکان می دهد تا نمونه هایی که می خواهیم در الگوی نهایی کنار بگذاریم(یعنی نادیده بگیریم) را (به صورت یک به یک یا با استفاده از یک کادر یا یک کمند : lasso) انتخاب کنیم. در تصویر زیر، نقطه های صورتی، نمونه هایی هستند که باقی می مانند و نقطه های قرمز نمونه هایی هستند که نادیده گرفته شده اند.

تصویر 9.15 رابط کاربری برای نمونه های از قلم انداخته شده را نشان می دهد. از رنگ صورتی برای نمونه هایی که ایجاد شده اند استفاده می شود و از رنگ خاکستری(در تصویر زیر به رنگ قرمز است اما در سالیدورک خاکستری است) برای نمونه هایی که نادیده گرفته شده اند استفاده می شود.

(تصویر 9.15 : استفاده از گزینه ی Instances To Skip)

گزینه ی  Propagate Visual Properties: این گزینه، خصوصیات مدل اصلی از نظر رنگ،جنس و طرح بر روی تمام الگوها ایجاد می کند[1].

گزینه ی Vary Sketch: این گزینه اغلب در الگوها(pattern) نادیده گرفته می شود و از آن به طور گسترده استفاده نمی شود. اگرچه ممکن است این گزینه کاربردهای ویژه ای داشته باشد، گزینه ی قدرتمندی است که می تواند باعث صرفه جویی زیادی در زمان شود و امکانات طراحی که ممکن است قبلاً در نظر نگرفته باشید را به شما می دهد. گزینه ی Vary Sketch به اسکچِ فیچر الگوسازی شده امکان می دهد تا در هر نمونه از الگو، رابطه های ترسیم پارامتریک را حفظ کند. این گزینه مشابه با گزینه ی Geometry Pattern است. به طوری که گزینه ی Geometry Pattern شرط انتهایی(end condition) را برای یک فیچر غیرفعال می کند ولی گزینه ی Vary Sketch رابطه های ترسیم پارامتریک اسکچ را برای یک الگو فعال می کند. برای فعال کردن گزینه ی Vary Sketch، الگوی خطی(Linear Pattern) باید از یک دایمنشن خطی برای Pattern Direction استفاده کنید. این دایمنشن باید در جهت الگو قرار داشته باشد و اضافه کردن فاصله برای الگو در جهت دایمنشن باید منجر به یک فیچر معتبر شود. رابطه های ترسیم اسکچ باید برای تمام طول الگو برقرار باشند. تصویر 9.16 رابطه های ترسیم اسکچ را نشان می دهد و الگوی حاصل شده را نیز نشان می دهد. این فیچر، قابلیت پیش نمایش ندارد.

 (تصویر 9.16 : استفاده از گزینه ی Vary Sketch)

مثال های دانلودی این کتاب

برای اینکه بهتر درک کنیم که این فیچر چگونه کار می کند، فایل نمونه به نام Chapter 9 Vary Sketch.sldprt را از فایل های دانلودی در سالیدورک باز کنید و Sketch2 را در آن ویرایش کنید. برای دانلود این فایل اینجا کلیک کنید.

دایمنشن 0.40 اینچ را ویرایش کنید. برای این کار، روی آن دابل کلیک کنید و از فلش اسکرول، برای افزایش این دایمنشن استفاده کنید؛ و تاثیر آن را در این اسکچ مشاهده کنید. اگر یک اسکچ به درستی به تغییرات واکنش نشان ندهد، نمی تواند با گزینه ی Vary Sketch مورد استفاده قرار گیرد. در این مورد، دایمنشن 0.40 اینچ بعنوان جهت، مورد استفاده قرار می گیرد؛ زیرا این، دایمنشنی است که اسکچ را به پایین الگو(pattern) می برد. وقتی که از این گزینه(Vary Sketch) استفاده می کنیم، اسکچ فیچر باید توسط یک دایمنشن تکی هدایت شود.

اگر دایمنشن 0.48 اینچ به مبدا(origin) یا ضلع پارت، مثل دایمنشن 0.48 اینچ متصل شده بود، این الگو به درستی کار نمی کرد. دایمنشنِ جهت، باید بتواند اسکچ را به همان طریقی که این اسکچ کار می کند، هدایت کند. این دایمنشن ها نمی توانند از مقدار 0 عبور کنند و نمی توان جهت آنها را وارونه کرد یا به سمت مقادیر منفی حرکت داد.

تمام عملیات توسط خط های ساخت و ساز(construction lines)  و آرک ها در سنترلاینِ اسلات(شیار) انجام می شود. نقاط اسکچ با استفاده از دایمنشن های 0.50 اینچی، در طول اضلاع مدل، در یک فاصله ی معین از انتهای شیارها(slots) نگهداری می شوند. این آرک ها توسط یک رابطه ترسیم Equal Radius و یک دایمنشن تکی با شعاع 0.58 اینچ کنترل شده اند.خط های مستقیم، در انتهای شیارها توسط یک رابطه ی ترسیم Equal Length کنترل شده اند.

این نوع دایمنشن گذاری و ایجاد رابطه های ترسیم، همان چیزی است که به آن طراحی پارامتریک گفته می شود. گزینه ی Vary Sketch را انتخاب کنید تا به نمونه های الگو امکان دهید تا همان طور که تکرار می شود، دایمنشن آنها نیز تغییر کند.

گزینه ی Instances To Vary: این گزینه با گزینه های Instances To Skip و Vary Sketch متفاوت است. این گزینه به ما امکان می دهد تا در الگو ویرایش های مختلفی انجام دهیم. این یک چیز قدرتمند برای الگوسازی است. برای مشاهده ی پنل PropertyManager از Instances To Vary از فیچر Linear Pattern به تصویر 9.17 توجه کنید.

گزینه ی Direction 1 Increments : این گزینه فاصله گذاری برای جهت(direction) فعلی را کنترل می کند. بنابراین، فاصله ی اول X است و فاصله دوم X+Y و فاصله بعدی X+2Y همین طور الی آخر است. با استفاده از این گزینه، فاصله گذاری بین نمونه های الگو هم می تواند افزایشی باشد و یا اینکه کاهشی باشد؛ زیرا مقدار افزایشی(قدر نسبت) آن می تواند مثبت یا منفی باشد. در جدولی که در زیر جعبه ی Direction 1 Spacing Increments قرار دارد، می توانیم دایمنشن های اضافی ای را از فیچر الگوسازی شده در تصاعد، به همان طریق انتخاب کنیم. در تصویر 9.17، مشاهده می کنید که فیچر الگو شده با هر نمونه، بیشتر از هم فاصله می گیرد، باریک تر می شود، بلند تر می شود و به یک سمت حرکت می کند.

(تصویر 9.17 : گزینه ی Instances To Vary به ما قدرت زیادی برای تغییر الگوها می دهد)

این پیش نمایش، تغییرات نهایی نمونه ها را نمایش نمی دهد؛ مگر اینکه در پنل Options گزینه ی Full Preview را انتخاب کنیم. مزیت استفاده از Partial Preview سرعت محاسبه ی آن برای الگوهای بزرگ یا پیچیده است.

گزینه ی Modified Instances : این گزینه، هر تغییر بیشتری که بخواهیم به یک نمونه ی تکی اعمال کنیم را کنترل می کند. بعنوان مثال، در تصویر 9.17 می توانید مشاهده کنید که یک نمونه به کنار رانده شده است و یک نمونه از قلم انداخته شده است.

از نقطه های صورتی رنگ که در اینجا استفاده شده اند، برای Instances To Skip استفاده شده است؛ در حالیکه نقطه های خاکستری مشخص کننده ی نمونه هایی است که از قلم انداخته شده اند اما نقطه ی سبز رنگ یعنی اینکه این نمونه اصلاح شده است(تغییر یافته است). ما توصیه می کنیم که این پارت را از فایل های دانلودی در فصل 9 که Up to Reference pattern.sldprt نام دارد باز کنید؛ یا برای دانلود آن اینجا کلیک کنید. سپس فیچر LPattern1 را ویرایش کنید تا رنگ ها و پیش نمایش های کلی را در مانیتور مشاهده کنید.

استفاده از الگوی دایره ای(Circular Pattern)

فیچر الگوی دایره ای، به یک ضلع دایره ای یا یک اسکچ، یک وجه استوانه ای، یک وجه revolve شده، یک ضلع مستقیم، یک محور یا یک محور موقت برای مشخص کردن محور الگو(Pattern Axis) نیاز دارد. تمام دیگر گزینه های الگوی دایره ای، مانند الگوی خطی(Linear Pattern) است، با این تفاوت که گزینه ی Equal Spacing (در آن) متفاوت عمل می کند.

گزینه ی Equal Spacing زاویه کُل را می گیرد و به طور مساوی تعداد نمونه ها را در آن زاویه تقسیم می کند. بدون استفاده از گزینه ی Equal Spacing، تنظیم Angle فاصله گذاری زاویه ای بین نمونه ها را نشان می دهد. همچنین گزینه ی Vary Sketch نیز در الگوی دایره ای(Circular Pattern) در دسترس است. اصول راه اندازی آن یکسان است اما ما باید یک دایمنشن زاویه ای را برای دایرکشن(direction) انتخاب کنیم. پارت نشان داده شده در تصویر 9.18 با استفاده از این روش ایجاد شده است.

(تصویر 9.18 : یک الگوی دایره ای با Vary Sketch)

 اگر در استفاده از رابطه های ترسیمی که به یک اسکچ اعمال می کنید، مهارت دارید، با استفاده از گزینه Vary Sketch می توانید نتایج بسیار عجیب و غریبی از الگوها به دست آورید. همچنین گزینه ی Instances To Vary نیز در الگوی دایره ای(Circular Pattern) در دسترس است؛ و قابلیت مقایسه با الگوی خطی(Linear Pattern) دارد؛ که قبلاً گفته شد. 

استفاده از الگوی منحنی محور(Curve-Driven Pattern)

الگوی منحنی محور، همان طور که از نام آن پیداست، یک الگو را در امتداد یک منحنی هدایت می کند. این منحنی می تواند یک خط، یک آرک یا یک اسپلاین باشد. یا می تواند یک ضلع، یک حلقه بسته، یک اسکچ دو یا سه بعدی یا حتی یک فیچر منحنی واقعی باشد. یک چیز جالب در مورد الگوی منحنی محور این است که می تواند یک Direction 2 داشته باشد و این دایرکشن می تواند یک منحنی باشد. این نوع الگو، یکی از جذاب ترین الگوها است و گزینه های زیادی دارد. برای اینکه یک اسکچ کامل بعنوان یک منحنی مورد استفاده قرار گیرد، این اسکچ نباید هیچ گوشه ی تیزی داشته باشد؛ یعنی تمام انتیتی های این اسکچ باید مماس باشند. این یعنی می توانیم از فیلت های اسکچ نیز استفاده کنیم. مثال نشان داده شده در تصویر 9.19 با استفاده از فیلت های اسکچ ایجاد شده است. این الگو از گزینه ی Equal Spacing (فاصله گذاری مساوی) استفاده می کند؛ که به طور مساوی، تعداد نمونه ها را به دور منحنی فاصله گذاری می کند. الگوی مذکور، همچنین از گزینه ی Offset Curve نیز استفاده می کند که رابطه فیچر الگوسازی شده را با منحنی، در سراسر الگو حفظ می کند؛ از گزینه ی Align To Seed نیز استفاده شده است که باعث می شود تمام نمونه های الگو در جهت مشابهی تراز شوند.

(تصویر 9.19 : یک الگوی منحنی محور با استفاده از فیلت های اسکچ)

تصویر 9.20 همین پارت را با استفاده از گزینه ی موقعیت دهی Transform Curve و گزینه ی چینشیِ Tangent To Curve نشان می دهد. به جای اینکه یک آفست از منحنی، از مرکز هر نمونه از فیچرِ الگوسازی شده عبور کند، در گزینه ی Transform Curve، تمام منحنی به جای اینکه آفست شود، (به یک سمت) حرکت داده می شود. در این پارت خاص، این گزینه باعث ایجاد یک الگوی شلوغ و بی نظم می شود. گزینه ی Tangent to Curve، جهت گیری اصلی را نسبت به منحنی، برای هر نمونه از الگو مشخص می کند.

(تصویر 9.20 : استفاده از گزینه های Transform Curve و Tangent to Curve)

 همان طور که در تصویر 9.21 نشان داده شده است، از گزینه ی Face Normal برای (ایجاد) یک الگوی سه بعدی استفاده می شود. با اینکه به نظر می رسد این قابلیت کمی مبهم است، اما اگر ما در یک سرفیس پیچیده به یک الگوی منحنی محور نیاز داشته باشیم، می تواند مفید واقع شود. اگر در مورد این مثال کنجکاو هستید، اینجا کلیک کنید تا این فایل را با نام Reference 3d Curve Driven.sldprt دانلود کنید.

(تصویر 9.21 : استفاده از یک الگوی سه بعدی منحنی محور)

اگر از یک Direction 2 برای یک الگوی منحنی محور استفاده کنیم نتیجه ای مانند آنچه در تصویر 9.22 نشان داده شده است را ایجاد می کند. این یک وضعیت دیگر است و با اینکه نادر است اما دانستن آن خوب است. بقیه ی بخش های فرمان Curve Driven Pattern، مانند دیگر فیچرهای الگو که قبلا نشان داده شده است کار می کند.

( تصویر 9.22: استفاده از Direction 2 به همراه یک الگوی منحنی محور)

استفاده از الگوی اسکچ محور(Sketch-Driven Pattern)

الگوهای اسکچ محور، از یک مجموعه نقاط اسکچ برای مشخص کردن موقعیت فیچرها استفاده می کند. فیچر Hole Wizard موقعیت چند حفره را با استفاده از نقاط اسکچ به طریق مشابهی مشخص می کند. اما فرمان Sketch Driven Pattern یک الگوی سه بعدی به همان روشی که Hole Wizard ایجاد می کند، ایجاد نمی کند. تصویر 9.23 یک الگوی دو جهته اسکچ محور را نشان می دهد. برای فیچر اول، نیازی به یک نقطه مرجع(reference point) نیست.

(تصویر 9.23 : استفاده از یک الگوی اسکچ محور)

گزینه ی Centroid در بخش Reference Point برای شکل های متقارن، و دیگر شکل هایی که به آسانی تعریف می شوند، مثل دایره ها و مستطیل ها مفید است؛ به طوری که ما می توانیم نقطه مرکزی(centroid) را تنها با نگاه کردن، پیدا کنیم. اما در شکل های پیچیده، ممکن است بخواهیم از گزینه ی Selected Point استفاده کنیم.

استفاده از الگوی جدول محور(Table-Driven Pattern)

یک الگوی جدول محور، یک مجموعه از موقعیت فیچرها در یک جدول است که متداول ترین آنها حفره ها هستند. این جدول ممکن است از هر منبعی که دو ستون داده(X و Y) دارد، وارد یا ایمپورت شده باشد که با فاصله سفید یا تب یا کاما از یکدیگر جدا شده اند. داده های غیر اصلی باعث می شوند که این ایمپورت با شکست مواجه شود.

 مبدا X و Y برای این جدول توسط یک فیچرِ سیستم مختصات هندسه ی مرجع(Coordinate System Reference Geometry) مشخص می شود. صفحه ی XY از این سیستمِ مختصات، همان صفحه ای است که داده های XY در جدول به آن رجوع می کنند. برای دسترسی به این سیستم مختصات، می توانید از منوها به آدرس زیر بروید:

Insert ➢ Reference Geometry ➢ Coordinate System

ما می توانیم این سیستم مختصات را با انتخاب ترکیبی از یک رأس برای مبدا و اضلاعی برای تراز کردن محورها ایجاد کنیم. این فیچر مانند فرمان Sketch Driven Pattern (الگوی اسکچ محور) می تواند از گزینه ی نقطه مرکزی(centroid) یا یک نقطه ی انتخاب شده بر روی فیچر، بعنوان نقطه مرجع، استفاده کند. 

این حقیقت که این فیچر هنوز در یک جعبه مکالمه ی شناور قرار دارد، به کم استفاده بودن و کمتر در اولویت قرار داشتنِ ارتقاء آن در سالیدورک،  اشاره می کند. رابط کاربری برای این فیچر در مقایسه با فیچرهایی که بیشتر مورد استفاده قرار می گیرند،  نسبتاً ابتدایی است. این رابط کاربری در تصویر 9.24 نشان داده شده است.

(تصویر 9.24 : جعبه ی مکالمه ی  Table Driven Pattern)

استفاده از الگوی پر کردن(Fill Pattern)

فیچر Fill Pattern، یک وجه یا ناحیه ی محصور شده توسط یک اسکچ را با الگوی یک فیچرِ انتخاب شده، یا یک برش از نمونه اصلی(seed) پر می کند. نوع الگویی که از آن برای پر کردن ناحیه ی مورد نظر استفاده می شود، به یکی از چهار الگوی از پیش تعیین شده که به طور متداول در توری ها و تهویه الکترونیکی، در پلاستیک و ورق فلزی استفاده می شود، محدود می شود.  این الگوها و دیگر گزینه ها برای فیچر Fill Pattern در تصویر 9.25 نشان داده شده اند.

(تصویر 9.25 : استفاده از الگوی Fill Pattern)

پنل Pattern Layout به ما امکان می دهد تا فاصله گذاری، و دیگر جنبه های هندسیِ چینش الگوی انتخاب شده، و همچنین کمترین مقدار فاصله های(gap) مرزی را کنترل کنیم. این کار به خصوص برای الگوهای فیچرهایی که به طور منظم از یکدیگر فاصله دارند، اما مرز نامنظمی دارند مفید است.

استفاده از الگوی متغیر(Variable Pattern)

فرمان Variable Pattern چند تکنیک جدول-محور را با یکدیگر ترکیب می کند. با استفاده از این فرمان، می توانیم تمام پارامترهای نمونه های یک فیچر را در یک جدول کنترل کنیم. نام این فرمان کمی غلط انداز است، زیرا هیچ الگوی حقیقی وجود ندارد. این فرمان فقط یک کپیِ پارامتری از فیچرها را در هر جایی که بخواهیم قرار می دهد.

یکی از ویژگی های متمایز کننده ی فرمان Variable Pattern این است که نمونه های از کار افتاده را ثبت می کند. یک روش جایگزین، این است که کلِ فیچر، به جای یک نمونه ی تکی، از کار بیفتد. این کار با دیگر فیچرهای الگو اتفاق خواهد افتاد.

استفاده از الگوی متغیر(Variable Pattern)، با اینکه قدرتمند است اما محدودیت هایی نیز دارد. بعنوان مثال، به ما امکان نمی دهد تا حفره های Hole Wizard یا دیگر الگوها را الگوسازی کنیم. همچنین Variable Pattern، یک اسکچ سه بعدی را بعنوان شکل هندسی مرجع(reference geometry) قبول نمی کند. با وجود این ویژگی پارامتریک، فرمان Variable Pattern تمایل دارد مستعد برخی مشکلات طولانی مدت در سالیدورک باشد.  بعنوان مثال وقتی که یک زاویه را می چرخانیم ممکن است جهت ها اشتباه شوند.

بیشتر مثال های این عملکرد، در اینترنت ساده انگارانه و دوبعدی هستند و واقعاً توانایی های منحصر به فرد آن را نشان نمی دهند و آنها هیچ دلیل قانع کننده ای برای استفاده از آن ارائه نمی دهند. ما در اینجا دو مثال ارائه می دهیم. یکی از آنها نسبتاً انتزاعی است و برای نشان دادن مفهوم ارائه شده است؛ و دیگری کاربرد قابل قبول تری دارد.

 علت اینکه در اکثر مثال ها می بینیم که ترتیب پارامترها به صورت گرید XY است، دشواری زوایه های چرخش(spinning angles) را نشان می دهد. شما می توانید آن را به کار بگیرید اما اگر به روشی دیگر این کار را انجام دهیم ساده تر است. اجازه دهید یک مثال بزنیم.

تصویر 9.26 یک فیچر فلش دار را نشان می دهد که بر روی یک سرفیس منحنی شکل، در نقاط تصادفی قرار گرفته است و در زوایای مختلف چرخیده است. این فیچر همواره، عمود بر سرفیس مورد نظر اکسترود شده است. عملکرد الگوی متغیر(Variable Pattern) به ما امکان می دهد تا به سادگی، چندین نمونه را از فیچر مورد نظر ایجاد کنیم و دایمنشن های مختلفی را به آنها اعمال کنیم. این مانند یک جدول طراحی است که ما به طور همزمان، تمام تنظیمات امکان پذیر را در آن مشخص کرده ایم. برای دانلود این پارت، اینجا کلیک کنید.

(تصویر 9.26 : یک الگوی متغیر ساده به نام  Waffle Mat.sldprt)

در زیر، روش تنظیم این فیچر نشان داده شده است:

◆◆ صفحه ی Section Plane، یعنی همان صفحه ای که توسط یک دایمنشن معین از نتهای شکل سالید فاصله دارد را D1@Section Plane می نامیم.

◆◆ اسکچ Intersection Sketch، اسکچی است که بین صفحه ی Section Plane و سرفیس منحنی متلاقی است؛ بنابراین همان طور که صفحه ی Section Plane حرکت می کند، اسکچ Intersection Sketch نوسان پیدا می کند و موج دار می شود.    

◆◆ یک نقطه ، در اسکچ Intersection Plane وجود دارد که از ضلع سمت چپِ شکلِ سالید، یک فاصله دارد که آن را D5@Intersection Sketch می نامیم.

◆◆ صفحه ی Tangent Plane، صفحه ای است که به سرفیس منحنی، در نقطه ی اسکچ مذکور مماس است.

◆◆ اسکچ Arrow Sketch، یک اسکچ در  Tangent Plane است که یک شکل فلش مانند است که می تواند بچرخد و طول خود را تغییر دهد، که توسط یک زاویه و یک دایمنشن طول، می تواند تنظیم شود.

◆◆ Variable Pattern یک فیچر است که می تواند همزمان، چندین فیچر Arrow را با مقادیر مختلف برای دایمنشن ها یا پارامترهای زیر، قرار دهد:

موقعیت اسکچ متلاقی: D1@Section Plane

چرخش فلش : D1@Arrow Sketch

طول فلش: D3@Arrow Sketch

موقعیت نقطه مماس: D5@Intersection Sketch 

نام Variable Pattern کمی نامفهوم هست زیرا از نظر فنی، این یک الگوی واقعی نیست؛ چون که هیچ الگوی قابل تشخیصِ تکرار شونده ای برای آن وجود ندارد. بلکه این فقط یک مجموعه از نسخه های متعددِ یک فیچر تکی است که در موقعیت ها و جهت های مختلف قرار گرفته اند.

اکنون اجازه دهید یک مثال پیچیده تر، اما کمتر انتزاعی، را بررسی کنیم. ما به طریق مشابهی این مثال را تنظیم کرده ایم: در این مثال چندین انتیتی حرکت داده شده اند که به ما امکان می دهند تا یک یا چند فیچر را موقعیت دهی کنیم یا تغییر اندازه دهیم یا جهت دهی کنیم. این فیچرها به هر طریقی که طرح پارامتری(parametric scheme) اجازه می دهد، قرار گرفته اند. در اینجا، ما یک گُل را به دور یک بطری، به شکل نامنظم الگوسازی کرده ایم. 

وقتی برای اولین بار خواستیم این کار را انجام دهیم درست کار نکرد؛ همه چیز به درستی کار می کرد اما فیچر الگو در تمام طول بطری الگوسازی نمی شد؛ و تنها بر روی نیمه ی جلویی کار می کرد؛ همان طور که در تصویر 9.27 نشان داده شده است. خطایی که در اینجا رخ می دهد می گوید که برخی از نمونه ها از هم جدا هستند؛ که برای ما پیشنهاد کرد که فیچرهای اکسترود به جای رفتن به سمت بطری، در فضا قرار گرفته اند:

Some instances were disjoint

بنابراین ما با اعمال همین الگو بر روی یک استوانه، کار را ساده تر کردیم؛ این کار بسیار ساده تر است زیرا با یک محیط دایره ای سروکار داریم. این استوانه به خوبی کار می کند و در تصویر 9.28 نشان داده شده است.

(تصویر 9.27 : الگوسازی به دور یک شکل نامنظم که تنها روی نیمه ی جلویی شکل، در فایل Variable Pattern Bottle3.sldprt کار می کند، برای دانلود این فایل، اینجا کلیک کنید)

(تصویر 9.28: الگوی متغیر به دور یک استوانه به خوبی در فایل Variable Pattern cylinder.sldprt کار می کند؛ برای دانلود این فایل، اینجا کلیک کنید)

 در پایان، ما نتوانستیم این کار را به صورت صد درصد کامل بر روی این شکل پیچیده پیاده کنیم و این موضوع را بعنوان یک مشکل فنی به پشتیبانی سالیدورک محول می کنیم.

 ما (در این شکل) یک راستا را انتخاب کرده ایم که تمام پارت قابل مشاهده باشد و شکل های پشت پارت، در جلو نشان داده نشوند. این موضوع در تصویر 9.29 نشان داده شده است و نام این فایل Variable Pattern Bottle4.sldprt است؛ برای دانلود آن اینجا کلیک کنید.

(تصویر 9.29: وقتی که داریم یک صفحه ی اسکچ را حرکت می دهیم، الگوی متغیر، وارونه می شود)

 به نظر می رسد علت اینکه تمام مثال های اینترنتیِ این عملکرد ساده انگارانه هستند، این است که این واقعاً یک عملکرد سه بعدی کامل نیست، و نشان می دهد که نقاط ضعف اساسی در اینجا وجود دارد. اگر نیاز دارید که الگوهای پیچیده تری بسازید، نیاز دارید تا به طور دستی از فیچرهای خود کپی بگیرید، یا از بازتاب دهی یا از الگوسازی های متعارف تر استفاده کنید.

الگوهای آرایشی(Cosmetic Patterns) در سالیدورک

الگوهای آرایشی، مانند دیگر انوع الگوها در سالیدورک نیستند. فیچر Cosmetic Patterns در حقیقت هیچ شکلی را ایجاد نمی کند، بلکه فقط ظاهر شکل را ایجاد می کند. فیچرهای الگوی آرایشی، با استفاده از قابلیت RealView که ممکن است بسته به سخت افزار شما، به خصوص کارت گرافیک شما، در دسترس باشد یا نباشد، اعمال می شوند.

نکته: برای اطلاعات بیشتر در مورد قابلیت RealView می توانید به این آدرس مراجعه کنید.  

اگر روش تولید(manufacturing method) به شکلِ حقیقی نیاز نداشته باشد، الگوهای آرایشی مناسب هستند. بعنوان مثال، نمونه سازی سریع(rapid prototyping) برای ایجاد یک پارت، به شکل هندسی صریحی(explicit geometry) نیاز دارد، اما یک شیت متال سوراخ شده یا یک دسته ی استوانه ای پیچ خورده، ممکن است برای ایجاد شکل هندسی، به یک یادداشتِ طراحی روی یک نقشه(drawing) نیاز داشته باشد تا تا کارگاه تولیدی بتواند فرآیند تولید آن را راه اندازی کند. 

برای اعمال یک الگوی آرایشی بر روی یک وجه، فیچر، بادی یا کلِّ پارت، از Task pane بر روی تب Appearances, Scenes, And Decals کلیک کنید و به آدرس های زیر بروید:

Appearances ➢ Miscellaneous ➢ Pattern

Appearances ➢ Miscellaneous ➢ RealView Only Appearances

حالا الگوی دلخواه خود را در داخل مدل، درگ و درآپ کنید و از منوی پاپ آپ برای اعمال آن به یک وجه، فیچر، بادی یا کل پارت استفاده کنید. تصویر 9.30 تبِ Appearances, Scenes, And Decals از Task Manager را به همراه برخی گزینه های الگوی آرایشی نشان می دهد.

(تصویر 9.30: گزینه های الگوی آرایشی در تب Appearances, Scenes, And Decals از Task Manager و بخش PropertyManager از الگوی آرایشی)

• بعدی
• قبلی